凭借上述措施，TMmist可获得与溅射装置等同等的膜质。以透明导电膜的特性为例，薄膜电阻值达到了9.5Ω/□，波长400n～800nm的可见光的 平均透射率达到了90.5％注3）。可满足太阳能电池的透明导电膜要求的10Ω/□以下、80％以上的标准（图2）。



　　无损伤
　　此次装置比溅射装置出色的是，不仅能够减少采用非真空工艺时较大的设置面积及初期投资，而且还可凭借无等离子体损伤这一点来提高基材薄膜的特性。
其中，无等离子体损伤的良好效果得到了太阳能电池厂商的证实。有厂商报告称，用于CIGS（Cu-In-Ga-Se）型太阳能电池的透明导电膜时，“转换效率（最大）提高了1成”。在良好的结果鼓舞下，已开始有太阳能厂商考虑导入试制机。
　　另外，成膜速度也比溅射装置高。溅射装置约为200nm/分钟，而TMmist达到了650nm/分钟。其原因估计是雾状液体能够比气体实现更多的原料供给量。


　　作为TMmist最初的应用领域，东芝三菱电机产业系统选择的是今后市场有望增长的CIGS型太阳能电池的透明导电膜。而且今后该公司还将开拓其他用途， 比如显示器等使用的透明导电膜，以及使用有机原料的有机EL等（图3）。其中，在有机EL方面，除了用于透明导电膜之外，还可用于发光层、电子传输层及正 孔传输层等。




作者：河合 基伸 来源：日经BP社 责任编辑：wutongyufg