东芝三菱电机产业系统可在非真空工艺下形成太阳能电池透明导电膜的装置“TMmist”已开始销售。该装置可削减设置面积、提高太阳能电池的转换效率及降低制造成本等。预计2014年度会获得约10亿日元，2015年度会获得约20亿日元的订单。

　　TM mist采用雾化CVD法，就是将成膜材料的溶液利用超声波雾化后，令其在基板上进行分解和反应形成薄膜。因不会像溅镀设备那样会对基板造成等离子损伤，所以有望提高太阳能电池的发电效率和品质。

　　另外，其还有成膜速度快的特点。在制造氧化锌透明导电膜时，成膜速度司达650nm/分。而原来的方法如蒸镀法，成膜速度只有数nW分、溅镀设备约为200nm/分。由成膜速度的提高，制造装置的设置面积司削减约30%。
  东芝三菱电机产业系统除太阳能电池外，还打算把雾化CVD法应用于有机EL、高功能薄膜以及纳米材料等．